特气供气系统:
微电子、半导体、光伏、LED、TFT_LCD、光纤、科研院等行业的客户在工艺制程中会使用到易燃易爆/有毒有害/腐蚀性等各类特种气体SiH4, NH3, Cl2等;
特气供气系统就是把各种特种气体在满足工艺制程要求的纯度、压力和流量的前提下安全稳定的供应到工艺设备内。
特气系统主要包括气源供应(特气柜、BSGS)、特气分配(VMB)、特气输送(管道阀门等)、工艺过程控制(PLC自动控制器)、以及气体泄漏侦测、尾气处理等主要模块。
对于特殊气体来讲,气体品种多,有毒有害气体多,针对腐蚀性、毒性、燃烧性的气体,通常设计将钢瓶置于气瓶柜(Gas Cabinet) 内,再通过管路将气体供应至现场附近的阀箱 (VMB, Valve Manifold Box) ,而后再进入制程机台的使用点 (POU, Point of Use) ,于进入机台腔体之前,会有独立的气体控制盘 (GB, Gas Box) 与制程控制模块联机,以质流控制 器 (MFC, Mass Flow Controller) 进行流量之控制与进气的混合比例控制,一般的惰性气体则是以开放式的气瓶架 (Gas Rack) 与阀盘 (VMP, Valve Manifold Panel) 进行供应。