特气输送系统的分类及各项要求

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特气输送系统的分类及各项要求


气体在微电子、半导体行业中的应用:

气体的使用在半导体制程中一直扮演着重要的角色,特别是半导体制程目前已被广泛的应用于各项产业,从传统的ULSI、TFT-LCD 到现在的微机电 (MEMS) 产业,皆以所谓的半导体制程为产品的制造流程,其中的制程包括如干蚀刻、氧化、离子布植、薄膜沉积等皆使用到相当多的气体,而气体的纯度则对组件性能、产品良率有着决定性的影响,气体供应的安全性则关乎人员的健康与工厂运作的安全。
电子行业中常见气体的分类:
大宗气体 Bulk gas ):氢气( H2 )、氮气( N2 )、氧气( O2 )、氩气( Ar )等
特殊气体 Specialty gas ):一般可分为腐蚀性、毒性、可燃性、助燃性、惰性等


半导体气体很多是对人体有害。特别是其中有些气体如SiH4 的自燃性,只要一泄漏就会与空气中的氧气起剧烈反应,开始燃烧;还有 AsH3 的剧毒性,任何些微的泄漏都可能造成人员生命的危害,也就是因为这些显而易见的危险,所以对于系统设计安全性的要求就特别高。
输配管道对气体的要求:

高纯气体输送管道对输送气体的“ 三度 ” 有一定的要求或控制。

气体纯度 :气体中杂质气氛的含量,通常用气体纯度的百分数来表示,如99.9999%, 也用杂质气氛含量的体积比 ppmppbppt表示。

干燥度 :气体中微量水分的含量,或称之为湿量,通常以露点表示,如常压露点-70  

颗粒度 :气体中含有污染物粒子的数量,粒径为μm 的粒子,多少粒/m3 来表示,对于压缩空气,通常也用不可避免的固体残留物的多少mg/ m3 来表示,其中涵盖了含油量。